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摩方精密復(fù)合精度光固化3D打印機(jī) D1025，復(fù)合光學(xué)精度：10μm和25μm，打印幅面：100 mm(L)x100 mm(W)x50 mm(H)，極限微尺度復(fù)合樹脂增材制造設(shè)備?？蓱?yīng)用于生物醫(yī)療、精密電子、微流控、半導(dǎo)體、航空航天等領(lǐng)域。

摩方精密復(fù)合精度光固化3D打印系統(tǒng)microArch® D0210，復(fù)合光學(xué)精度：2μm和10μm，打印幅面：100 mm(L)x100 mm(W)x50 mm(H)，極限微尺度復(fù)合樹脂增材制造設(shè)備。

高精度微納3D打印系統(tǒng)nanoArch S130 ，光學(xué)精度2微米，支持光敏樹脂材料打印。系統(tǒng)基于摩方精密創(chuàng)新面投影微立體光刻技術(shù)（PμSL），并融入了摩方自主開發(fā)的多項技術(shù)。

微納陶瓷3D打印服務(wù)，采用光固化DLP技術(shù)，支持氧化鋁、氧化鋯、陶瓷前驅(qū)體等陶瓷漿料打印，能實(shí)現(xiàn)蜂窩狀陶瓷載體、分級多孔陶瓷支架、多通道微反應(yīng)器等復(fù)雜結(jié)構(gòu)一體成型，可用于半導(dǎo)體封裝、5G/6G通信濾波器等制造領(lǐng)域。

光固化3D打印是由摩方精密自主研發(fā)的超高精度微尺度3D打印系統(tǒng)。設(shè)備采用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術(shù)，是目前行業(yè)極少能實(shí)現(xiàn)超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系統(tǒng)。