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光敏樹(shù)脂3D打印機(jī)作為一種常見(jiàn)的3D打印技術(shù)，具有高精度、高速度、多材料等優(yōu)點(diǎn)，被廣泛應(yīng)用于制造、醫(yī)療、藝術(shù)設(shè)計(jì)等領(lǐng)域。

nanoArch S130 2μm精度微納3D打印系統(tǒng)是由摩方精密自主研發(fā)的超高精度微尺度3D打印系統(tǒng)。設(shè)備采用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithog...

microArch S240A 10μm高精度微納3D打印系統(tǒng)基于BMF摩方的技術(shù)?面投影微立體光刻技術(shù)（PμSL）構(gòu)建，并融入了摩方自主開(kāi)發(fā)的多項(xiàng)技術(shù)。摩方PμSL是一種微米級(jí)精度的3D光刻技術(shù)，這...

高精度光固化透明樹(shù)脂Clear透光率＞90%，可與常用的高透光性材料PC、透明ABS持平，適用于光學(xué)傳感成像、微流控觀測(cè)及流體路徑驗(yàn)證、工業(yè)設(shè)計(jì)內(nèi)部結(jié)構(gòu)可視化等領(lǐng)域，

高速微納3D打印系統(tǒng)microArch® S150 Ultra，光學(xué)精度25μm，最高4s/層高速打印模式，支持光敏樹(shù)脂、生物材料打印，在打印速度、穩(wěn)定性與應(yīng)用拓展能力得到顯著提升。

桌面級(jí)精密3D打印設(shè)備：microCube T30/T30 Pro，可實(shí)現(xiàn)29.5μm光學(xué)精度，228mm(L) * 128mm(W) * 190mm(H)打印尺寸，采用工業(yè)級(jí)硬件根基，81個(gè)分區(qū)全幅...

摩方精密提供氧化鋁陶瓷3d打印服務(wù)，目前可成功實(shí)現(xiàn)10μm孔徑和17μm桿徑的精密結(jié)構(gòu)極限加工能力，解決了傳統(tǒng)工藝無(wú)法實(shí)現(xiàn)的微通道、梯度孔隙等結(jié)構(gòu)制造難題，可應(yīng)用于半導(dǎo)體封裝、5G/6G通信濾波器等制...

桌面級(jí)高精度微納3d打印系統(tǒng)T10，光學(xué)精度10.8μm，最大成型尺寸20mm(L) x 11mm(W) x 90mm(H)，支持光敏樹(shù)脂、陶瓷漿料、生物墨水、水凝膠材料打印

多材料光固化3D打印機(jī)microCube M150，基于離心式光固多材料4D打印技術(shù)，通過(guò)405nm波段UV LED光源投影至功能材料液面實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)固化成型，并利用打印平臺(tái)高速離心作用高效清除殘余材料。...

多材料光固化3D打印機(jī)，基于高精度數(shù)字光處理3D打印技術(shù)和離心式多材料切換技術(shù)，多材料3D打印裝備可實(shí)現(xiàn)任意復(fù)雜異質(zhì)結(jié)構(gòu)快速成型，在力學(xué)超材料、生物醫(yī)學(xué)、柔性電子、軟體機(jī)器人等領(lǐng)域具有重要應(yīng)用潛力。